Новости‎ > ‎

Доклад на SPIE

Президент NMI представит работу под названием "Challenges of SEM-based critical dimension metrology of interconnect" на 25-й конференции "Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography" , которая будет проводиться в городе Сан Хосе, штат Калифорния с 27 февраля по 3 марта 2011.