Тренинг‎ > ‎

Основы оптической thin-film метрологии

Курс:
Основы оптической thin-film метрологии

Длительность: 3,5 ч.

Описание курса

Курс представляет слушателям основы тонкоплёночной метрологии. В начале курса проводится обзор электомагнитных волн и поляризации оптических свойств материалов. Затем описываются способы рефлектометрии и эллипсометрии. Затем обсуждаются модели сдавливания  плёнок и создание многослойной модели. Также демонстрируется как толщина, индекс рефракции и коэффициент затухания могут быть измеренны рефлектометрически и еллипсометрически на одной и нескольких длин волны и разных углов вертикальных поверхностей. Измерения включают в себя оптимизацию параметров эталона плёнки и приведение спектров модели и измеряемого образца к одинаковым значениям. Будут детально рассмотрены методы применения этих приёмов в одно- многослойных пленках и важность этих методов в полупроводниковой индустрии. Также
 Applications of these techniques to single layer, multi-layer and graded layer film stacks of importance in the semiconductor industry are detailed. Также рассмотрится способ создания информации из полученных данных измерений.


Результаты курса
Прележный слушатель сможет:
  • Описать оптические свойства материалов и электомагнитных волн, используемых в тонкоплёночных измерениях
  • Уметь опознавать методы оптического измерения толщины плёнок, индекс рефракции, коэффициента затухания (вымирания) и композиции
  • Уметь объяснить развитие многослойной плёночной модели, настройку её параметров для соответствия спектру измерения
  • Сравнивать слабые и сильные стороны различных метрологических методов для специфических случаев в индустрии